ZH5494射頻CCP薄膜沉積裝置

點擊看大圖

如果您對該產(chǎn)品感興趣的話,可以

產(chǎn)品名稱: ZH5494射頻CCP薄膜沉積裝置

產(chǎn)品型號: ZH5494

產(chǎn)品展商: ghitest

產(chǎn)品文檔: *相關(guān)文檔

簡單介紹

本裝置主要由薄膜沉積室、真空抽氣系統(tǒng)、氣源進氣調(diào)節(jié)系統(tǒng)、襯底加熱溫度控制系統(tǒng)等部分組成。通過本實驗裝置可以掌握CVD（化學(xué)氣相沉積）；理解CVD的成膜過程及要求，化學(xué)輸運反應(yīng)的原理，等離子體CVD的原理、特點及等離子體的激勵方式；了解該在電學(xué)、光學(xué)、微電子學(xué)等領(lǐng)域的廣闊應(yīng)用前景。

ZH5494射頻CCP薄膜沉積裝置 的詳細介紹

產(chǎn)品簡介
本裝置主要由薄膜沉積室、真空抽氣系統(tǒng)、氣源進氣調(diào)節(jié)系統(tǒng)、襯底加熱溫度控制系統(tǒng)等部分組成。
通過本實驗裝置可以掌握CVD（化學(xué)氣相沉積）；理解CVD的成膜過程及要求，化學(xué)輸運反應(yīng)的原理，等離子體CVD的原理、特點及等離子體的激勵方式；了解該在電學(xué)、光學(xué)、微電子學(xué)等領(lǐng)域的廣闊應(yīng)用前景。
可開設(shè)的實驗
1、P型微晶硅材料及在薄膜太陽能電池上的應(yīng)用；
2、硅系納米復(fù)合薄膜材料PCVD法制備；
3、電容耦合/電感耦合等離子體化學(xué)氣相沉積制備**功能薄膜。
主要參數(shù)
1、薄膜沉積室：由不銹鋼底與玻璃鐘罩組成；**尺寸：Φ220×H230mm；
2、薄膜沉積室本底真空： ≤1Pa；
3、射頻耦合方式：電容耦合/電感耦合；射頻源功率：帶500W 13.56MHz；
4、氣路系統(tǒng)：由三路轉(zhuǎn)子流量計控制（可選配流量計）；
5、襯底加熱溫度：室溫至300℃可控；
6、平行板電：Φ70mm；
7、工作反應(yīng)氣體：由電板上微孔均勻?qū)耄?/span>
8、真空抽氣系統(tǒng)：2XZ-4型旋片機械泵，4L/S，單相220V交流電源供電；
9、管道、閥門：材質(zhì)使用不銹鋼和金屬波紋管；
10、對過流過壓、斷路等異常情況進行報警，并執(zhí)行相應(yīng)保護措施；
11、供電電源：AC220V，50Hz，整機功率2KW。

產(chǎn)品留言

標(biāo)題

聯(lián)系人

聯(lián)系電話

內(nèi)容

驗證碼

點擊換一張

注：1.可以使用快捷鍵Alt+S或Ctrl+Enter發(fā)送信息!
2.如有*要,請您留下您的詳細聯(lián)系方式!

相關(guān)產(chǎn)品

ZTSZ30-2應(yīng)變控制式三軸儀

BTCJ-UCF超聲波明渠流量計

BTCJ-TLD1000電磁流量計

BTCJ/TFQ-K1M浮球液位開關(guān)

BTCJ/TPL-L靜壓式液位變送器/投入式液位變送器

聯(lián)系人：劉經(jīng)理；聯(lián)系電話：010-89942170、89942167、15652257065；傳真：010-89942170